氬氣生產廠家為你介紹高純氬氣凈化機裝置說明：原料氬為工業普氬時，其純化工藝為，采用非蒸散型吸氣劑為凈化劑，在一定溫度下，吸氣劑可將普氬氣中的O2、N2、H2、CO、CO2、CH4等雜質形成穩定的化合物或固溶體，從而達到對氬氣精制的目的。

　　本裝置凈化器采用特殊結構，具有接觸面積大、阻力小、凈化效率高、熱功率損耗小等優點。

　　氬氣生產廠家介紹說本裝置吸附干燥器對氬氣進行深度脫水，可與區熔硅晶爐配套使用可用于激光器、濺射、半導體生產，氣相色譜儀、特殊燈泡稀有金屬加工等需要用高純氬氣的生產技術領域。

　　技術參數：

　　1、處理氣量： 5~500Nm?/h

　　2、純化后氬氣純度 99.9995%

　　純氬技術要求應符合下表的規定符合：GB/T4842-2006項目

　　原料氣指標 純氬指標 純化后指標

　　氬氣純度(體積分數)/10-2 99.99% 99.999% 99.9995%

　　氫氣含量(體積分數) ≤ ppm 5 1.0 0.5

　　氧氣含量（體積分數）≤ ppm 10 1.5 1.0

　　氮含量（體積分數）≤ ppm 50 4 2

　　烴類含量（體積分數）≤ ppm 20 1 0.5

　　水份含量（體積分數）≤ ppm 15 3 2.0